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Application of the level set method for the visual representation of continuous cellular automata oriented to anisotropic wet etching

Montoliu Álvaro, Carles; Ferrando Jódar, Néstor; Cerdá Boluda, Joaquín; Colom Palero, Ricardo José (Taylor & Francis (Routledge): STM, Behavioural Science and Public Health Titles, 2014-01-02)

[EN] Atomistic models are a very valuable simulation tool in the field of material science. Among them are the continuous cellular automata (CCA), which can simulate accurately the process of chemical etching used in ...
Desarrollo de una plataforma basada en el SOM KV260 para la validación y diseño digital de algoritmos de procesado de imagen en tiempo real para cámaras de profundidad.

Pascual Folch, Jordi (Universitat Politècnica de València, 2024-10-10)

[ES] photonicSENS fabrica cámaras que proporcionan una imagen de colores convencional junto con una imagen de profundidad de la escena con alta precisión y en tiempo real. Hasta ahora, el procesado de la imagen del sensor ...
Implementación del método Level Set para la simulación del proceso químico de atacado anisótropo húmedo aplicado para la microfabricación

Montoliu Álvaro, Carles (Universitat Politècnica de València, 2013-02-06)

[ES] En el presente trabajo se ha implementado el método Level Set (LS) para poder ser aplicado para simular el proceso de atacado anisótropo húmedo utilizado para la fabricación de microestructuras. En la actualidad para ...
Implementation and evaluation of the Level Set method: towards efficient and accurate simulation of wet etching for microengineering applications

Montoliu Álvaro, Carles; Ferrando Jódar, Néstor; Gosalvez, Miguel Ángel; Cerdá Boluda, Joaquín; Colom Palero, Ricardo José (Elsevier, 2013-10)

The use of atomistic methods, such as the Continuous Cellular Automaton (CCA), is currently regarded as a computationally efficient and experimentally accurate approach for the simulation of anisotropic etching of various ...
Improvement of feature-scale profile evolution in a silicon dioxide plasma etching simulator using the level set method

Montoliu Álvaro, Carles; Baer, E; Cerdá Boluda, Joaquín; Colom Palero, Ricardo José (IOP Publishing: Hybrid Open Access, 2015)

We present a three-dimensional simulator of silicon dioxide etching in a uorocarbon plasma process. Explicit parametrization of the surface is currently one of the most frequently used methods to evolve the etched surface ...
LGEM: A lattice Boltzmann economic model for income distribution and tax regulation

Cerdá Boluda, Joaquín; Montoliu Álvaro, Carles; Colom Palero, Ricardo José (Elsevier, 2013-04)

[EN] In this paper, a new econophysics model based on a lattice Boltzmann automata is presented. This model represents economic agents (people, countries...) as particles of a gas moving on a 2D lattice and interacting ...
Sistema para el control de calidad en la fabricación de cámaras de profundidad

Selfa Bou, Claudia (Universitat Politècnica de València, 2023-07-26)

[ES] El tema principal del presente trabajo de final de grado consiste en la creación de algoritmos capaces de analizar de manera automática la calidad de las imágenes de cámaras 3D. Actualmente los procesos de test se ...
Study, Modelling and Implementation of the Level Set Method Used in Micromachining Processes

Montoliu Álvaro, Carles (Universitat Politècnica de València, 2015-12-09)

[EN] The main topic of the present thesis is the improvement of fabrication processes simulation by means of the Level Set (LS) method. The LS is a mathematical approach used for evolving fronts according to a motion defined ...

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