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RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia
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| Improvement of feature-scale profile evolution in a silicon dioxide plasma etching simulator using the level set method | 168 |
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|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Improvement of feature-scale profile evolution in a silicon dioxide plasma etching simulator using the level set method | 1 | 2 | 4 | 13 | 3 | 2 | 0 |
Visitas al fichero
| Visualizaciones | |
|---|---|
| -Montoliu;E Baer;Cerdá - Improvement of feature-scale profile evolution in a silicon dioxide plasm....pdf | 1 |
Países con más visualizaciones
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|---|---|
| Estados Unidos | 87 |
| China | 21 |
| España | 10 |
| Francia | 10 |
| Japón | 10 |
| Irlanda | 8 |
| Alemania | 7 |
| Suecia | 6 |
| Holanda | 2 |
| Rusia | 2 |
Ciudades con más visualizaciones
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|---|---|
| Ashburn | 42 |
| Tokyo | 10 |
| Valencia | 9 |
| Beijing | 8 |
| Dublin | 8 |
| Nanjing | 5 |
| Grenoble | 4 |
| Louisville | 4 |
| Stanford | 4 |
| Villeurbanne | 4 |
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