- -

Study of the Secondary Electron Yield in Dielectrics Using Equivalent Circuital Models

RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia

Compartir/Enviar a

Citas

Estadísticas

  • Estadisticas de Uso

Study of the Secondary Electron Yield in Dielectrics Using Equivalent Circuital Models

Mostrar el registro completo del ítem

Bañón, D.; Socuellamos, JM.; Mata-Sanz, R.; Mercadé-Morales, L.; Gimeno Martínez, B.; Boria Esbert, VE.; Raboso García-Baquero, D.... (2018). Study of the Secondary Electron Yield in Dielectrics Using Equivalent Circuital Models. IEEE Transactions on Plasma Science. 46(4):859-867. https://doi.org/10.1109/TPS.2018.2809602

Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://hdl.handle.net/10251/121371

Ficheros en el ítem

Thumbnail
Nombre: IEEE-Trans-Plasma ...
Tamaño: 2.413Mb
Formato: PDF
Descripción: Versión del Autor.
Abrir/Preview
[Cerrado]
Nombre: IEEE-Trans-Plasma ...
Tamaño: 5.866Mb
Formato: PDF
Descripción: Versión editorial
Solicitar una copia al autor

Metadatos del ítem

Título: Study of the Secondary Electron Yield in Dielectrics Using Equivalent Circuital Models
Autor: Bañón, David Socuellamos, J. M. Mata-Sanz, Rafael Mercadé-Morales, Laura Gimeno Martínez, Benito Boria Esbert, Vicente Enrique Raboso García-Baquero, David Semenov, V. Rakova, E.I Sánchez-Royo, J. F. Segura García del Río, Alfredo
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions
Universitat Politècnica de València. Departamento de Sistemas Informáticos y Computación - Departament de Sistemes Informàtics i Computació
Fecha difusión:
Resumen:
[EN] Secondary electron emission has an important role on the triggering of the multipactor effect; therefore, its study and characterization are essential in radio-frequency waveguide applications. In this paper, we propose ...[+]
Palabras clave: Multipactor effect , Radio frequency , Secondary electron emission (SEE) , Secondary electron yield
Derechos de uso: Reserva de todos los derechos
Fuente:
IEEE Transactions on Plasma Science. (issn: 0093-3813 )
DOI: 10.1109/TPS.2018.2809602
Editorial:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Versión del editor: http://doi.org/10.1109/TPS.2018.2809602
Código del Proyecto:
info:eu-repo/grantAgreement/MINECO//TEC2016-75934-C4-1-R/ES/DEMOSTRADORES TECNOLOGICOS DE FILTROS Y MULTIPLEXORES CON RESPUESTAS SELECTIVAS Y SINTONIZABLES EN NUEVAS GUIAS COMPACTAS PARA APLICACIONES ESPACIALES/
Descripción: © 2018 IEEE. Personal use of this material is permitted. Permissíon from IEEE must be obtained for all other uses, in any current or future media, including reprinting/republishing this material for advertisíng or promotional purposes, creating new collective works, for resale or redistribution to servers or lists, or reuse of any copyrighted component of this work in other works.
Agradecimientos:
The authors would like to thank the European High Power Space Materials Laboratory for its contribution-a laboratory funded by the European Regional Development Fund-a way of making Europe. Many thanks to the University ...[+]
Tipo: Artículo

recommendations

 

Este ítem aparece en la(s) siguiente(s) colección(ones)

Mostrar el registro completo del ítem