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Caracterización de xerogel para su uso en dispositivos fotónicos

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Caracterización de xerogel para su uso en dispositivos fotónicos

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dc.contributor.advisor Sanchis Kilders, Pablo es_ES
dc.contributor.advisor Díaz Rubio, Ana es_ES
dc.contributor.advisor Ortiz de Zárate Díaz, David es_ES
dc.contributor.author Arthous García, Rafael es_ES
dc.date.accessioned 2023-09-14T10:43:19Z
dc.date.available 2023-09-14T10:43:19Z
dc.date.created 2023-04-05 es_ES
dc.date.issued 2023-09-14 es_ES
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10251/196418
dc.description.abstract [ES] En numerosas aplicaciones nanofotónicas se buscan emplear materiales ligeros y porosos para poder implementarlos a nivel industrial y obtener materiales los cuales puedes controlar su porosidad y estructura. Esto permite adecuarla en todo momento a una aplicación concreta. Con el desarrollo de las tecnologías y los equipos que sustituyen a los procesos convencionales podemos obtener aún una mayor precisión. En este trabajo de TFG se presenta el desarrollo para realizar un xerogel de ultra bajo índice, para ello deberemos de conseguir un material poroso. En el rango visible no vamos a realizar ningún tipo de tarea por lo que no tendremos en cuenta el comportamiento que tenga nuestro material a esas frecuencias. Se ha llevado a cabo un estudio completo con las fases de desarrollo (síntesis de xerogel, modelo de reflexión FTIR, modelo teórico, reflectometría y estudio de la permitividad) antes para, más adelante, realizar una programación para la extracción de las propiedades electromagnéticas mediante algoritmo genético y una comprobación experimental para la caracterización de índices de refracción. es_ES
dc.description.abstract [EN] In many nano-photonic applications, light and porous materials are used in order to implement them at an industrial level and to obtain materials whose porosity and structure can be con-trolled. This makes it possible to adapt it at any time to a specific application. With the devel-opment of technologies and equipment that replace conventional processes, we can obtain even greater precision. In this TFG work we present the development to make an ultra low index xerogel, for this we must obtain a porous material. In the visible range we are not going to perform any kind of task, so we will not take into account the behavior of our material at those frequencies. A com-plete study has been carried out with the development phases (xerogel synthesis, FTIR reflec-tion model, theoretical model, refle-xometry and permittivity study) before to, later, carry out a programming for the extraction of the electromagnetic properties by means of genetic algorithm and an experimental verification for the characterization of refractive indices. en_EN
dc.format.extent 51 es_ES
dc.language Español es_ES
dc.publisher Universitat Politècnica de València es_ES
dc.rights Reserva de todos los derechos es_ES
dc.subject Fotónica es_ES
dc.subject Nanofotónica es_ES
dc.subject Xerogel es_ES
dc.subject Reflectometría es_ES
dc.subject Photonics en_EN
dc.subject Nanophotonics en_EN
dc.subject Reflectometry en_EN
dc.subject.classification TEORÍA DE LA SEÑAL Y COMUNICACIONES es_ES
dc.subject.other Grado en Ingeniería de Tecnologías y Servicios de Telecomunicación-Grau en Enginyeria de Tecnologies i Serveis de Telecomunicació es_ES
dc.title Caracterización de xerogel para su uso en dispositivos fotónicos es_ES
dc.title.alternative Characterization of xerogel for photonic devices es_ES
dc.title.alternative Caracterització de Xerogel per a ús en dispositius fotònics es_ES
dc.type Proyecto/Trabajo fin de carrera/grado es_ES
dc.rights.accessRights Cerrado es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació es_ES
dc.description.bibliographicCitation Arthous García, R. (2023). Caracterización de xerogel para su uso en dispositivos fotónicos. Universitat Politècnica de València. http://hdl.handle.net/10251/196418 es_ES
dc.description.accrualMethod TFGM es_ES
dc.relation.pasarela TFGM\154857 es_ES


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