Diseño de un nano-elipsómetro integrado en tecnología de silicio

Abstract

En el presente Proyecto Final de Carrera se realizará el diseño de un prototipo de elipsómetro basado en tecnología de silicio. Se analizará la técnica conocida como elipsometría para poder adaptarla a las características de un sistema de antenas de dimensiones nanométricas. Se estudiarán problemas como las interferencias y la directividad de estas nanoantenas, y se optimizará el diseño para su correcto funcionamiento. El objetivo es que el prototipo sea capaz de medir las características de un material desconocido, como el coeficiente de reflexión o el índice de refracción, tal y como lo hacen los elipsómetros comerciales. El funcionamiento de estos dispositivos, actualmente en el mercado, es analizar la polarización de un haz de luz confinado que rebota en un material desconocido, y así obtener los resultados. Así pues, veremos una progresión del diseño, partiendo de un sistema inicial y solucionando cada uno de los hándicaps que aparecerán, alcanzando un diseño robusto frente a interferencias que consigue caracterizar cualquier material, a una frecuencia típica del dominio óptico (1550 nm) y con un ancho de banda de 100 nm.