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Diseño y caracterización de calentadores basados en óxido de indio y estaño para circuitos en fotónica de silicio

RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia

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Diseño y caracterización de calentadores basados en óxido de indio y estaño para circuitos en fotónica de silicio

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dc.contributor.advisor Sanchis Kilders, Pablo es_ES
dc.contributor.author Parra Gómez, Jorge es_ES
dc.date.accessioned 2018-10-05T16:14:08Z
dc.date.available 2018-10-05T16:14:08Z
dc.date.created 2018-09-24 es_ES
dc.date.issued 2018-10-05 es_ES
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10251/109784
dc.description.abstract El objetivo del TFM es el analisis, diseño y caracterización experimental de calentadores basados en óxido de indio y estaño para sintonizar, mediante el efecto termo-óptico, la respuesta de dispositivos basados en la tecnología fotónica de silicio. La principal ventaja es una reducción del consumo de potencia frente a los calentadores tradicionales basados en metales. Las estructuras diseñadas serán fabricadas en las instalaciones del Centro de Tecnología de Nanofotónica. es_ES
dc.description.abstract Indium tin oxide (ITO) heaters are designed, fabricated and experimentally characterized for tuning silicon photonic structures by means of the thermo-optic effect in silicon. The intrinsic properties of lower optical losses and higher resistivity compared to some metals, like aluminium (Al) an titanium (Ti), allows to significantly improving the electrical power consumption of the heater. Therefore, an around three times reduction of power consumption with respect to AlCu based heaters and a drastic reduction of the optical losses compared to Ti heaters is demonstrated for both TE and TM polarization operation in silicon photonic circuits. en_EN
dc.language Español es_ES
dc.publisher Universitat Politècnica de València es_ES
dc.rights Reserva de todos los derechos es_ES
dc.subject circuitos integrados fotónicos es_ES
dc.subject efecto termo-óptico es_ES
dc.subject electrodos es_ES
dc.subject fotónica de silicio es_ES
dc.subject óxidos metálicos es_ES
dc.subject indium tin oxide en_EN
dc.subject heater en_EN
dc.subject silicon photonics en_EN
dc.subject transparent conducting oxides en_EN
dc.subject thermo-optic effect en_EN
dc.subject electrodes en_EN
dc.subject.classification TEORIA DE LA SEÑAL Y COMUNICACIONES es_ES
dc.subject.other Máster Universitario en Tecnologías, Sistemas y Redes de Comunicaciones-Màster Universitari en Tecnologies, Sistemes i Xarxes de Comunicacions es_ES
dc.title Diseño y caracterización de calentadores basados en óxido de indio y estaño para circuitos en fotónica de silicio es_ES
dc.type Tesis de máster es_ES
dc.rights.accessRights Abierto es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació es_ES
dc.description.bibliographicCitation Parra Gómez, J. (2018). Diseño y caracterización de calentadores basados en óxido de indio y estaño para circuitos en fotónica de silicio. http://hdl.handle.net/10251/109784 es_ES
dc.description.accrualMethod TFGM es_ES
dc.relation.pasarela TFGM\89793 es_ES


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