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Impact of the external resistance on the switching power consumption in VO2 nano gap junctions

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Impact of the external resistance on the switching power consumption in VO2 nano gap junctions

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Sánchez Diana, LD.; Rosa Escutia, Á.; Griol Barres, A.; Gutierrez Campo, AM.; Homm, P.; Van Bilzen, B.; Menghini, M.... (2017). Impact of the external resistance on the switching power consumption in VO2 nano gap junctions. Applied Physics Letters. 111(3):1-4. https://doi.org/10.1063/1.4994326

Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://hdl.handle.net/10251/132995

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Nombre: Sánchez;Rosa;Griol ...
Tamaño: 971.4Kb
Formato: PDF
Descripción: Versión editorial
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Metadatos del ítem

Título: Impact of the external resistance on the switching power consumption in VO2 nano gap junctions
Autor: Sánchez Diana, Luis David Rosa Escutia, Álvaro Griol Barres, Amadeu Gutierrez Campo, Ana Maria Homm, Pia Van Bilzen, Bart Menghini, Mariela Locquet, Jean-Pierre Sanchis Kilders, Pablo
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Instituto Universitario de Telecomunicación y Aplicaciones Multimedia - Institut Universitari de Telecomunicacions i Aplicacions Multimèdia
Universitat Politècnica de València. Instituto Universitario de Tecnología Nanofotónica - Institut Universitari de Tecnologia Nanofotònica
Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions
Fecha difusión:
Resumen:
[EN] The influence of an external resistance on the performance of VO2 nanogap junctions is analyzed and experimentally characterized. The current-voltage response shows the reversible metal-insulator transition typical ...[+]
Palabras clave: Vanadium dioxide , Transition-metal oxide , Switches , Power consumption , Photonics , Optic
Derechos de uso: Reserva de todos los derechos
Fuente:
Applied Physics Letters. (issn: 0003-6951 )
DOI: 10.1063/1.4994326
Editorial:
American Institute of Physics
Versión del editor: https://doi.org/10.1063/1.4994326
Código del Proyecto:
info:eu-repo/grantAgreement/EC/FP7/619456/EU/Silicon CMOS compatible transition metal oxide technology for boosting highly integrated photonic devices with disruptive performance/
info:eu-repo/grantAgreement/MINECO//TEC2016-76849-C2-2-R/ES/DESARROLLO DE OXIDOS METALICOS DE TRANSICION CON TECNOLOGIA DE SILICIO PARA APLICACIONES DE CONMUTACION E INTERCONEXION OPTICAS EFICIENTES Y RESPETUOSAS CON EL MEDIO AMBIENTE/
info:eu-repo/grantAgreement/GVA//PROMETEOII%2F2014%2F034/ES/Nanomet Plus/
Agradecimientos:
This work was supported by the European Commission under Project No. FP7-ICT-2013-11-619456 SITOGA. Financial support from TEC2016-76849-C2-2-R and NANOMET Conselleria de Educacio, Cultura i Esport-PROMETEOII/2014 034 is ...[+]
Tipo: Artículo

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