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Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica

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Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica

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Fernández Hernández, A. (2021). Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica. Universitat Politècnica de València. http://hdl.handle.net/10251/174402

Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://hdl.handle.net/10251/174402

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Nombre: Fernandez - Cuali ...
Tamaño: 4.394Mb
Formato: PDF
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Título: Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica
Autor: Fernández Hernández, Adrián
Director(es): Muñoz Muñoz, Pascual Pastor Abellán, Daniel
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions
Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació
Fecha acto/lectura:
2021-09-29
 Fecha difusión:
Resumen:
[ES] En este proyecto se aborda la cualificación de procesos de fabricación de capas de nitruo de silicio, sobre obleas de semiconductor, empleando la técnica "Low Pressure Vapor Deposition (LPCVD)". Dicha cualificación ...[+]
Palabras clave: Semiconductor , Desposición , Nitruro de silicio , Elipsometría
Derechos de uso: Cerrado
Editorial:
Universitat Politècnica de València
Titulación: Máster Universitario en Ingeniería de Telecomunicación-Màster Universitari en Enginyeria de Telecomunicació
Tipo: Tesis de máster

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