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Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica

RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia

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Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica

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Nombre: Fernandez - Cuali ...
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Formato: PDF
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dc.contributor.advisor Muñoz Muñoz, Pascual es_ES
dc.contributor.advisor Pastor Abellán, Daniel es_ES
dc.contributor.author Fernández Hernández, Adrián es_ES
dc.date.accessioned 2021-10-11T12:49:44Z
dc.date.available 2021-10-11T12:49:44Z
dc.date.created 2021-09-29 es_ES
dc.date.issued 2021-10-11 es_ES
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10251/174402
dc.description.abstract [ES] En este proyecto se aborda la cualificación de procesos de fabricación de capas de nitruo de silicio, sobre obleas de semiconductor, empleando la técnica "Low Pressure Vapor Deposition (LPCVD)". Dicha cualificación se realiza empleando como instrumento de media un elipsómetro espectroscópico. En este trabajo, se realiza el análisis de las distintas campañas de medida, sobre varias rondas de fabricación, con el objetivo de determinar los parámetros del proceso de medida que proporcionan una validación de la fabricación, empleando el menor tiempo posible. es_ES
dc.format.extent 71 es_ES
dc.language Español es_ES
dc.publisher Universitat Politècnica de València es_ES
dc.rights Reserva de todos los derechos es_ES
dc.subject Semiconductor es_ES
dc.subject Desposición es_ES
dc.subject Nitruro de silicio es_ES
dc.subject Elipsometría es_ES
dc.subject.classification TEORIA DE LA SEÑAL Y COMUNICACIONES es_ES
dc.subject.other Máster Universitario en Ingeniería de Telecomunicación-Màster Universitari en Enginyeria de Telecomunicació es_ES
dc.title Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica es_ES
dc.type Tesis de máster es_ES
dc.rights.accessRights Cerrado es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació es_ES
dc.description.bibliographicCitation Fernández Hernández, A. (2021). Cualificación de procesos de deposición de nitruro de silicio mediante elipsometría espectrométrica. Universitat Politècnica de València. http://hdl.handle.net/10251/174402 es_ES
dc.description.accrualMethod TFGM es_ES
dc.relation.pasarela TFGM\146490 es_ES


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