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Implementación del método Level Set para la simulación del proceso químico de atacado anisótropo húmedo aplicado para la microfabricación

RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia

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Implementación del método Level Set para la simulación del proceso químico de atacado anisótropo húmedo aplicado para la microfabricación

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Montoliu Álvaro, C. (2012). Implementación del método Level Set para la simulación del proceso químico de atacado anisótropo húmedo aplicado para la microfabricación. http://hdl.handle.net/10251/19214.

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Título: Implementación del método Level Set para la simulación del proceso químico de atacado anisótropo húmedo aplicado para la microfabricación
Autor:
Director(es): Colom Palero, Ricardo José Cerdá Boluda, Joaquín Ferrando Jódar, Néstor Gosálvez Ayuso, Miguel Ángel
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Servicio de Alumnado - Servei d'Alumnat
Fecha acto/lectura:
2012-07-11
Fecha difusión:
Resumen:
[ES] En el presente trabajo se ha implementado el método Level Set (LS) para poder ser aplicado para simular el proceso de atacado anisótropo húmedo utilizado para la fabricación de microestructuras. En la actualidad para ...[+]


[EN] In this thesis it has been implemented the Level Set (LS) method in order to simulate anisotropic wet etching process used for building micro-structures. Now a days, it is used atomistic models to simulate this process, ...[+]
Palabras clave: Atacado anisótropo , Mems , Microestructuras , Gpu , Wet etching , Micro-structures , Level set
Derechos de uso: Cerrado
Titulación: Máster Universitario en Ingeniería de los Sistemas Electrónicos-Màster Universitari en Enginyeria de Sistemes Electrònics
Tipo: Tesis de máster

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