Implementación del método Level Set para la simulación del proceso químico de atacado anisótropo húmedo aplicado para la microfabricación

Abstract

[ES] En el presente trabajo se ha implementado el método Level Set (LS) para poder ser aplicado para simular el proceso de atacado anisótropo húmedo utilizado para la fabricación de microestructuras. En la actualidad para simular este proceso se utilizan modelos atomísticos, no obstante, el uso del método LS podía suponer ciertas ventajas. Finalmente, se comparan los resultados de ambas implementaciones.

[EN] In this thesis it has been implemented the Level Set (LS) method in order to simulate anisotropic wet etching process used for building micro-structures. Now a days, it is used atomistic models to simulate this process, however, using the LS method could turn out in some advantages. Finally, results of both implementations are compared.