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Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers

RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia

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Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers

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Diestre Olmos, M. (2013). Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers. http://hdl.handle.net/10251/35279.

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Nombre: Memoria - Diestre ...
Tamaño: 3.548Mb
Formato: PDF
Descripción: Memoria
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Metadatos del ítem

Título: Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers
Autor: Diestre Olmos, Martín
Director(es): Palomares Gimeno, Antonio Eduardo
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros Industriales - Escola Tècnica Superior d'Enginyers Industrials
Fecha acto/lectura:
2013-12
 Fecha difusión:
Resumen:
Proyecto Confidencial (Riunet)
Palabras clave: Inyección de tinta , Tinta de resina
Derechos de uso: Cerrado
Editorial:
Universitat Politècnica de València
Titulación: Ingeniero Químico-Enginyer Químic
Tipo: Proyecto/Trabajo fin de carrera/grado

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