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Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers

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Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers

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Nombre: Memoria - Diestre ...
Tamaño: 3.548Mb
Formato: PDF
Descripción: Memoria
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dc.contributor.advisor Palomares Gimeno, Antonio Eduardo es_ES
dc.contributor.author Diestre Olmos, Martín es_ES
dc.date.accessioned 2014-01-30T13:09:30Z
dc.date.available 2014-01-30T13:09:30Z
dc.date.created 2013-12
dc.date.issued 2014-01-30
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10251/35279
dc.description.abstract Proyecto Confidencial (Riunet) es_ES
dc.language Inglés es_ES
dc.publisher Universitat Politècnica de València es_ES
dc.rights Reserva de todos los derechos es_ES
dc.subject Inyección de tinta es_ES
dc.subject Tinta de resina es_ES
dc.subject.classification INGENIERIA QUIMICA es_ES
dc.subject.other Ingeniero Químico-Enginyer Químic es_ES
dc.title Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers es_ES
dc.type Proyecto/Trabajo fin de carrera/grado es_ES
dc.rights.accessRights Cerrado es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros Industriales - Escola Tècnica Superior d'Enginyers Industrials es_ES
dc.description.bibliographicCitation Diestre Olmos, M. (2013). Design and optimization of photoresist inkjet printing on silicon wafers. http://hdl.handle.net/10251/35279. es_ES
dc.description.accrualMethod Archivo delegado es_ES


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