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Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos

RiuNet: Repositorio Institucional de la Universidad Politécnica de Valencia

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Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos

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Cembrero Coca, P. (2013). Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos. http://hdl.handle.net/10251/61339.

Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://hdl.handle.net/10251/61339

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Metadatos del ítem

Título: Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos
Autor:
Director(es): Mollar García, Miguel Alfonso Marí Soucase, Bernabé
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingeniería del Diseño - Escola Tècnica Superior d'Enginyeria del Disseny
Fecha acto/lectura:
2013-09
Fecha difusión:
Resumen:
El objetivo de este estudio es la preparación y caracterización de películas delgadas de ZnO tipo n dopado con cloro mediante la técnica de electrodeposición. El ZnO es utilizado para aplicaciones optoelectrónicas y en ...[+]


Puedes encontrar el trabajo académico en la biblioteca de la ETSID (P E-PFM/250)
Palabras clave: Dopado de semiconductores , Cloro , Dispositivos fotovoltaicos , Electrodeposición , ZnO
Derechos de uso: Cerrado
Titulación: Máster Universitario en Sensores para Aplicaciones Industriales-Màster Universitari en Sensors Per a Aplicacions Industrials
Tipo: Tesis de máster

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