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Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos

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Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos

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dc.contributor.advisor Mollar García, Miguel Alfonso es_ES
dc.contributor.advisor Marí Soucase, Bernabé es_ES
dc.contributor.author Cembrero Coca, Paula es_ES
dc.date.accessioned 2016-03-01T19:28:54Z
dc.date.available 2016-03-01T19:28:54Z
dc.date.created 2013-09
dc.date.issued 2016-03-01
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10251/61339
dc.description.abstract El objetivo de este estudio es la preparación y caracterización de películas delgadas de ZnO tipo n dopado con cloro mediante la técnica de electrodeposición. El ZnO es utilizado para aplicaciones optoelectrónicas y en particular dispositivos fotovoltaicos. En fotovoltaica, es usado en dispositivos de película delgada como capa ventana tipo-n para celdas solares de película. La capa ventana es la primera capa a la que llegan los fotones en un semiconductor. Esta capa debe ser transparente, lo que implica tener una energía de GAP elevada y además ser bastante conductora para minimizar las pérdidas resistivas. Para preparar estas películas se emplearon soluciones electrolíticas de ZnCl2 y Zn(ClO4)2 en solución de Dimetilsulfóxido (DMSO) saturados con O2 molecular en baño de 80°C para la electrodeposición, dependiendo la concentración de dopado del radio molar [Cl-]/[Zn2+] de los iones contenidos en la solución. Para poder caracterizar y evaluar la concentración de dadores dentro de las películas de ZnO:Cl se han utilizado distintas técnicas. Las propiedades estructurales se caracterizaron mediante X-ray Diffraction (Difracción de rayos X, XRD), las propiedades ópticas mediante técnicas espectroscópicas, la composición de las películas fue estudiada mediante Scanning Electron Microscope (Microscopio electrónico de barrido, SEM), y por último las propiedades electroquímicas mediante medidas de impedancia electroquímica (Mott-Schootky). es_ES
dc.description.abstract Puedes encontrar el trabajo académico en la biblioteca de la ETSID (P E-PFM/250) es_ES
dc.format.extent 62 es_ES
dc.language Español es_ES
dc.rights Reserva de todos los derechos es_ES
dc.subject Dopado de semiconductores es_ES
dc.subject Cloro es_ES
dc.subject Dispositivos fotovoltaicos es_ES
dc.subject Electrodeposición es_ES
dc.subject ZnO es_ES
dc.subject.classification FISICA APLICADA es_ES
dc.subject.other Máster Universitario en Sensores para Aplicaciones Industriales-Màster Universitari en Sensors Per a Aplicacions Industrials es_ES
dc.title Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos es_ES
dc.type Tesis de máster es_ES
dc.rights.accessRights Cerrado es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingeniería del Diseño - Escola Tècnica Superior d'Enginyeria del Disseny es_ES
dc.description.bibliographicCitation Cembrero Coca, P. (2013). Electrodeposición de películas de ZnO dopado con cloro para dispositivos fotovolataicos. http://hdl.handle.net/10251/61339. es_ES
dc.description.accrualMethod Archivo delegado es_ES


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