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Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas

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Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas

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Parra Gómez, J. (2016). Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas. http://hdl.handle.net/10251/75031.

Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://hdl.handle.net/10251/75031

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[Cerrado]
Name: Parra - Desarrollo ...
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Format: PDF
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Title: Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas
Author: Parra Gómez, Jorge
Director(s): Sanchis Kilders, Pablo
UPV Unit: Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació
Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions
Read date / Event date:
2016-07-11
 Issued date:
Abstract:
El objetivo del TFG es el desarrollo de dispositivos fotónicos basados en tecnología de silicio amorfo para la implementación de aplicaciones pasivas tales cómo filtrado o (de)multiplexación. Para ello, se estudiarán los ...[+]
Subjects: Fotónica , Comunicaciones ópticas , Silicio , Materiales , Dispositivos
Copyrigths: Cerrado
Publisher:
Universitat Politècnica de València
degree: Grado en Ingeniería de Tecnologías y Servicios de Telecomunicación-Grau en Enginyeria de Tecnologies i Serveis de Telecomunicació
Type: Proyecto/Trabajo fin de carrera/grado

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