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Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas

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Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas

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Parra Gómez, J. (2016). Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas. http://hdl.handle.net/10251/75031.

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Nombre: Parra - Desarrollo ...
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Formato: PDF
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Título: Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas
Autor: Parra Gómez, Jorge
Director(es): Sanchis Kilders, Pablo
Entidad UPV: Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació
Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions
Fecha acto/lectura:
2016-07-11
 Fecha difusión:
Resumen:
El objetivo del TFG es el desarrollo de dispositivos fotónicos basados en tecnología de silicio amorfo para la implementación de aplicaciones pasivas tales cómo filtrado o (de)multiplexación. Para ello, se estudiarán los ...[+]
Palabras clave: Fotónica , Comunicaciones ópticas , Silicio , Materiales , Dispositivos
Derechos de uso: Cerrado
Editorial:
Universitat Politècnica de València
Titulación: Grado en Ingeniería de Tecnologías y Servicios de Telecomunicación-Grau en Enginyeria de Tecnologies i Serveis de Telecomunicació
Tipo: Proyecto/Trabajo fin de carrera/grado

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