Parra Gómez, J. (2016). Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas. http://hdl.handle.net/10251/75031.
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Title: | Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas | |||
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El objetivo del TFG es el desarrollo de dispositivos fotónicos basados en tecnología de silicio amorfo para la implementación de aplicaciones pasivas tales cómo filtrado o (de)multiplexación. Para ello, se estudiarán los ...[+]
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Copyrigths: | Cerrado | |||
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