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Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas

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Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas

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Nombre: Parra - Desarrollo ...
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dc.contributor.advisor Sanchis Kilders, Pablo es_ES
dc.contributor.author Parra Gómez, Jorge es_ES
dc.date.accessioned 2016-12-07T13:31:12Z
dc.date.available 2016-12-07T13:31:12Z
dc.date.created 2016-07-11
dc.date.issued 2016-12-07 es_ES
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10251/75031
dc.description.abstract El objetivo del TFG es el desarrollo de dispositivos fotónicos basados en tecnología de silicio amorfo para la implementación de aplicaciones pasivas tales cómo filtrado o (de)multiplexación. Para ello, se estudiarán los parámetros óptimos de proceso y se realizará un análisis de su influencia en propiedades claves del material tales como el índice de refracción y el estrés de capa. El trabajo a realizar abarcará diseño, fabricación y caracterización tanto a nivel de material como de dispositivo. es_ES
dc.language Español es_ES
dc.publisher Universitat Politècnica de València es_ES
dc.rights Reserva de todos los derechos es_ES
dc.subject Fotónica es_ES
dc.subject Comunicaciones ópticas es_ES
dc.subject Silicio es_ES
dc.subject Materiales es_ES
dc.subject Dispositivos es_ES
dc.subject.classification TEORIA DE LA SEÑAL Y COMUNICACIONES es_ES
dc.subject.other Grado en Ingeniería de Tecnologías y Servicios de Telecomunicación-Grau en Enginyeria de Tecnologies i Serveis de Telecomunicació es_ES
dc.title Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas es_ES
dc.type Proyecto/Trabajo fin de carrera/grado es_ES
dc.rights.accessRights Cerrado es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Escuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación - Escola Tècnica Superior d'Enginyers de Telecomunicació es_ES
dc.contributor.affiliation Universitat Politècnica de València. Departamento de Comunicaciones - Departament de Comunicacions es_ES
dc.description.bibliographicCitation Parra Gómez, J. (2016). Desarrollo de la tecnología de silicio amorfo para aplicaciones fotónicas. http://hdl.handle.net/10251/75031. es_ES
dc.description.accrualMethod TFGM es_ES
dc.relation.pasarela TFGM\34604 es_ES


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